Våre åpningstider
Man - Fre: 08:30 - 17:00

Adresse
Wergelandsveien 1, 0167 Oslo

Telefonnummer
22 03 21 00

Vil du vite mer om Økt hårvekst (Hirsuitisme)?

Time til hudlege

Bestill time til hudlege enkelt online eller på telefon 22 03 21 00. Kort ventetid, erfarne spesialister og ingen henvisning.

Hårfjerning med Diode Laser

En studie fra 2016 så på effekten av Hårfjerning med Diode Laser. Diode laser anses i dag å være gullstandard for hårfjerningslasere.

Oslo Hudlegesenter har en helt ny Diode laser tilgjengelig. Den kan kombineres med både Alexandrite laser og IPL for optimal effekt.

Diode lasere

De fleste diode lasere i dag bruker høy energi. Dette medfører også mer ubehag for pasientene. Ved å redusere energien kan behandlingen også gjøres mer behagelig. Målet for studien var å se om lavere energi, men med høyere reptetisjonsrate, har tilsvarende effekt.

Metode

Totalt ble 92 pasienter inkludert i studien. De fikk behandling i armhulene med 4-ukers intervall. På ene siden tradisjonell høyenergi, og på den andre siden lav energi med høy repetisjonsrate.

Konklusjon

Gjennomsnittlig reduksjon i mengde hår var tilnærmet identisk – 90.2% vs. 87% vurdert 6 måneder etter avsluttet behandling. Pasienter hadde mindre ubehag ved bruk av lavere styrke. Våre hudleger vil vurdere hvilken styrke og hastighet som brukes på hårfjerningslaseren. Diode laser vil også kunne kombineres med andre behandlingsmodaliteter som Alexandrite og IPL.

Hårfjerning med Diode laser

Li W, Liu C, Chen Z et al. Safety and efficacy of low fluence, high repetition rate versus high fluence, low repetition rate 810-nm diode laser for axillary hair removal in Chinese women. J Cosmet Laser Ther. 2016;18(7):393-396.

Referanser

  • Dermatology: 3rd edition. Bologna JL, Jorizzo JL (Eds.). Pub: Mosby.
  • Rook’s Textbook of Dermatology. Burns DA, Breathnach SM (Eds.). Pub: Wiley-Blackwell.
  • Andrew’s Diseases of the skin: Clinical Dermatology. James WD, Berger TG (Eds). Pub: Saunders
  • Surgery of the Skin: Procedural Dermatology. Robinson JK, Hake CW (Eds).